潔凈棚具備多種潔凈等級及空間搭配可以根據使用需求設計制作，因此其簡(jiǎn)便運用彈性大安裝容易且施工期短以及可移性為其主要特點(diǎn)，潔凈棚同時(shí)可針對在一般等級的潔凈室中部地區需要高潔凈度的地方做部增設以降低成本。潔凈棚是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設備。潔凈棚主要由箱體、風(fēng)機、初效空氣過(guò)濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地面支撐，結構緊湊，使用方便?？梢詥蝹€(gè)使用，也可多個(gè)連接組成帶狀潔凈區域。？潔凈室的溫濕度主要是根據工藝要求來(lái)確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著(zhù)空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來(lái)越嚴的趨勢。

　　濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多，相對濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì )結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì )引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著(zhù)的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高，粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。

　　具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細，所以對溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線(xiàn)性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因為操作人員出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車(chē)間，這種車(chē)間不宜超過(guò)25